Bei dielektrischen Beschichtungen, ob für Filter jeglicher Art oder AR-Beschichtungen, werden ein strukturierter Fotolack und die Lift-off-Technologie verwendet. Die Beschichtung wird bei einer geringen Temperatur auf das Substrat aufgebracht, das bereits mit dem strukturierten Fotolack beschichtet ist. Dann wird die Beschichtung durch den Lift-off gemeinsam mit dem Fotolack entfernt. Neueste Fortschritte gestatten es uns, diese Technologie auch bei sehr großen Filterdicken >10 µm anzuwenden. Chrombasierte Schichten werden normalerweise durch Nassätzen entfernt. Dabei wird die Chromschicht nach der Beschichtung mit einem Fotolack bedeckt. Der Fotolack wird strukturiert und die Chromschicht an den offenen Oberflächen chemisch entfernt. Dieser Prozess erzeugt sehr gut definierte Kanten mit Unregelmäßigkeiten <1 µm. Statt Nassätzen kann auch reaktives Ionenätzen genutzt werden, um deutlich feinere Strukturen in dielektrische Materialien einzubringen. Für größere Strukturen bietet sich außerdem eine kostengünstigere maskierte Beschichtung an.
Zur Qualitätskontrolle wird ein automatisiertes optisches Kontrollsystem genutzt, das automatisch nach Defekten sucht und bestätigt, dass die Struktur in den spezifizierten Abmessungen produziert wurde.
Je nach dem Produkt und seinen Anwendungen sind verschiedene Strukturierungstechniken verfügbar, um ein breites Spektrum von Kundenbedürfnissen hinsichtlich Strukturgrösse und -form abzudecken:
