Photolithographie (Nassätzen, reaktives Ionenätzen, Lift-off)

Photolithographiefähigkeiten wie Ätz- und Lift-off-Techniken ermöglichen die Herstellung von hochpräzisen Strukturierten Beschichtungen und Gittern im Submikrometerbereich. Die photolithographischen Techniken werden besonders eingesetzt, um Deckgläser für MEMS-Elemente und CCD/CMOS-Bildsensoren herzustellen.